Bersagli per sputtering in titanio ad elevata purezza
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Bersagli per sputtering in titanio ad elevata purezza

Nome del prodotto: Bersagli per sputtering in titanio ad alta purezza
Purezza 99,5%, 99,95%, 99,98%, 99,995%.
Materiale: lega di titanio puro titanio e altri
Tecnica: forgiatura, lavorazione CNC
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introduzione al prodotto

Bersagli per sputtering in titanio ad elevata purezza

1. Innovazione fondamentale: ridefinire purezza e prestazioni

  • Nome del prodotto: Bersagli per sputtering in titanio di purezza ultra-elevata-(gradi Gr1-Gr12)
  • Benchmark di purezza:
  • Contenuto di titanio: Maggiore o uguale al 99,95% (ASTM B348)
  • Controllo delle impurità: <0.02% (O, N, C ≤0.005%; Fe ≤0.01%)
  • Densità: 4,51 g/cm³ (±0,02)
  • Perché questo è importante:
  • Integrità cinematografica: Sub-ppm impurity levels eliminate voids and inclusions, ensuring uniform film thickness (±2%) and adhesion strength (peel test >50MPa).
  • Struttura del grano: I grani equiassici da 50–100 μm (verificati al SEM-) riducono la formazione di archi e migliorano la stabilità della velocità di sputtering del 30% .
  • Vantaggio tecnico:
  • Fusione per induzione sotto vuoto: materia prima con purezza del 99,999% fusa sotto vuoto di 10⁻³ Pa.
  • Pressatura Isostatica a Caldo (HIP): Trattamento da 1.200 gradi /200 MPa per chiudere i pori<5 μm.
  • Lavorazione di precisione CNC: Tolleranze ±0,05 mm per dimensioni critiche (ad esempio, spessore target).

 

2. Soluzioni-specifiche per l'applicazione

2.1 Produzione di semiconduttori

Rivestimento in wafer: Obiettivi Gr1 (99,5% Ti) per strati dielettrici di gate (interfacce ossido/nitruro).

Caso di studio: Contaminazione da particolato ridotta dell'80% nello sputtering di wafer da 300 mm.

2.2 Rivestimenti ottici

Pellicole anti-riflesso: Obiettivi Gr5 (Ti-6Al-4V) per ottiche UV/IR (controllo dell'indice di rifrazione: n=2.2–2,6).

Lenti UV-C: Raggiunge una trasmissione del 99,8% nell'intervallo 200–400 nm.

2.3 Immagazzinamento di energia

Batterie-allo stato solido: Obiettivi Gr7 (Ti-0,2Pd) per interfacce solido-elettrolita (conduttività ionica: 10⁻³ S/cm).

2.4 Elettronica avanzata

Circuiti flessibili: Obiettivi Gr12 (Ti-0.3Mo-0.8Ni) per linee conduttrici estensibili (tolleranza alla deformazione: 300%).


 

3. Garanzia di qualità e conformità

Certificazioni:

  • ISO9001: Tracciabilità completa dalla materia prima al prodotto finito.
  • ASTM B381: Resistenza all'infragilimento da idrogeno<200 kPa.
  • RoHS/REACH: <100 ppm restricted substances.

 

Protocolli di test:

Metodo di prova

Parametro

Specifica

GDM

Profilazione delle impurità

<0.02% total

SEM/EDS

Morfologia del grano

Equiassico,<100 μm

XRD

Composizione di fase

>99% -Ti

Prova dell'idrogeno

Contenuto di H₂

<2 ppm (ASTM E1447)


 

titanium sputtering targets42

 

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